Design Pattern mit C#

Weiterbildung

4-Wochen-Kurs

Design Pattern (Entwurfsmuster) sind bewährte Schablonen und Vorgehensweisen zur Lösung wiederkehrender Programmierprobleme. In diesem Seminar werden die Muster von GoF vorgestellt und anhand der Programmiersprache C# nachvollzogen.

Inhalt

  • Einführung in Entwurfsmuster
  • Erzeugungsmuster
    • Fabrikmethode, factory method
    • Abstrakte Fabrik, kit
    • Einzelstück, singleton
    • Erbauer, builder
    • Prototyp, prototype
  • Strukturmuster
    • Adapter, wrapper
    • Brücke, bridge
    • Dekorierer, decorator
    • Fassade, façade
    • Fliegengewicht, flyweight
    • Kompositum, composite
    • Stellvertreter, proxy
  • Verhaltensmuster
    • Interpreter, interpreter
    • Schablonenmethode
    • Beobachter, observer
    • Kommando, transaction
    • Memento, token
    • Strategie, policy
    • Vermittler, mediator
    • Zustand, state
    • Zuständigkeitskette, chain of responsibilities
  • Weiterführende Themen, Projektarbeit

Zielgruppe

Programmierer, Softwaredesigner

Voraussetzungen

Gute Programmierkenntnisse in Visual C#

Förderung

Kompletter Kurs förderfähig
z.B. mit Bildungsgutschein, über Berufsförderungsdienst (BFD) oder bei Kurzarbeit

Nächste Termine

  • Mo, 13.01.2025
  • Mo, 03.02.2025
  • Mo, 03.03.2025
  • Mo, 07.04.2025
  • Mo, 05.05.2025
  • Mo, 02.06.2025

Anfrage

Kursnummer: LS23.196

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